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砷化鎵襯底上的混合并質(zhì)外延

時(shí)間:2026-04-05    作者:admin 點(diǎn)擊: ( 0 ) 次

【摘要】 本發(fā)明屬于一種采用氣相外延與液相外延的混 合外延方法,在砷化鎵襯底上異質(zhì)外延磷化銦和晶格 匹配于磷化銦的III-V族多元化合物半導(dǎo)體材料,通 過采用準(zhǔn)平衡回熔技術(shù),在砷化鎵襯底上生長出晶格 匹配的磷化銦、銦鎵砷和銦鎵砷磷III-V族多元化合 物半導(dǎo)體,使這類材料的成本大為降低并具有性能 好、滿足器件實(shí)用要求的優(yōu)點(diǎn),尤其適用于光纖通信 中的半導(dǎo)體激光器、光探測器以及微電子學(xué)等領(lǐng)域中 的器件制造。 【專利類型】發(fā)明申請 【申請人】中國科學(xué)院西安光學(xué)精密機(jī)械研究所 【申請人類型】科研單位 【申請人地址】710068陜西省西安市友誼西路234號(hào) 【申請人地區(qū)】中國 【申請人城市】西安市 【申請人區(qū)縣】碑林區(qū) 【申請?zhí)枴緾N91100620.6 【申請日】1991-02-04 【申請年份】1991 【公開公告號(hào)】CN1053146A 【公開公告日】1991-07-17 【公開公告年份】1991 【IPC分類號(hào)】H01L21/205; H01L21/208; C30B19/00; C30B25/00; H01L21/02 【發(fā)明人】李晉閩; 郭里輝; 侯洵 【主權(quán)項(xiàng)內(nèi)容】1、在砷化鎵(GaAs)襯底上異質(zhì)外延生長磷化銦(InP)和晶格匹配于InP的Ⅲ-Ⅴ族多元化合物半導(dǎo)體材料的方法,本發(fā)明的特征是:采用氣相外延與液相外延的混合外延生長技術(shù),先用氣相外延在GaAs襯底上生長InP緩沖層Ⅰ,然后在該緩沖層上再液相外延生長InP緩沖層Ⅱ和晶格匹配于InP的Ⅲ-Ⅴ族多元化合物半導(dǎo)體材料。。(來 自 馬 克 數(shù) 據(jù) 網(wǎng)) 【當(dāng)前權(quán)利人】中國科學(xué)院西安光學(xué)精密機(jī)械研究所 【當(dāng)前專利權(quán)人地址】陜西省西安市友誼西路234號(hào) 【統(tǒng)一社會(huì)信用代碼】12100000437201489M 【被引證次數(shù)】1.0 【被他引次數(shù)】1.0 【家族被引證次數(shù)】1.0

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    【摘要】省略后視圖。【專利類型】外觀設(shè)計(jì)【申請人】上海本安儀表系統(tǒng)有限公司【申請人類型】企業(yè)【申請人地址】201203上海市浦東新區(qū)金橋出口加工區(qū)寧橋路615號(hào)1棟8層【申請人地區(qū)】中國【申請人城市】上海市【申請人區(qū)縣】浦東新區(qū)【申請?zhí)枴緾

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