【摘要】本實(shí)用新型涉及一種用于油田生產(chǎn)井利用堵劑 封堵炮眼或串槽段的裝置，其特征是：堵劑管和封堵 器采用雙層管導(dǎo)壓分流結(jié)構(gòu)，擴(kuò)張封隔件與擠堵劑變 成兩個(gè)相對(duì)獨(dú)立的壓力系統(tǒng)，堵劑不進(jìn)入封隔器；封 隔器卡距內(nèi)外表光滑；暫堵器暫時(shí)卡堵可能返出堵劑
【摘要】 本發(fā)明公開了一種晶片檢測(cè)方法，包括：利用AVI工具中的光學(xué)處理單元獲取晶片光學(xué)圖像；并對(duì)晶片光學(xué)圖像進(jìn)行灰度計(jì)算及分區(qū)；選定分區(qū)標(biāo)準(zhǔn)芯片；最后，將不 同分區(qū)內(nèi)的其它芯片同標(biāo)準(zhǔn)芯片進(jìn)行灰度值對(duì)比，檢測(cè)出缺陷芯片。所述分區(qū)的具體方式根據(jù)產(chǎn)品狀況及工藝條件確定；所述分區(qū)可為晶片光學(xué)圖像內(nèi)的任意區(qū)域；所述分區(qū)內(nèi)標(biāo)準(zhǔn)芯片為晶片上實(shí)際存在的芯片或經(jīng)由AVI工具虛擬得到的芯片模型；進(jìn)行所述灰度值對(duì)比之前，需預(yù)先設(shè)定對(duì)比判別標(biāo)準(zhǔn)；所述對(duì)比判別標(biāo)準(zhǔn)由具體的產(chǎn)品要求及工藝條件確定。 數(shù)據(jù)由馬 克 團(tuán) 隊(duì)整理 【專利類型】發(fā)明申請(qǐng) 【申請(qǐng)人】中芯國際集成電路制造(上海)有限公司 【申請(qǐng)人類型】企業(yè) 【申請(qǐng)人地址】201203上海市浦東新區(qū)張江路18號(hào) 【申請(qǐng)人地區(qū)】中國 【申請(qǐng)人城市】上海市 【申請(qǐng)人區(qū)縣】浦東新區(qū) 【申請(qǐng)?zhí)枴緾N200610027587.0 【申請(qǐng)日】2006-06-12 【申請(qǐng)年份】2006 【公開公告號(hào)】CN101090083A 【公開公告日】2007-12-19 【公開公告年份】2007 【授權(quán)公告號(hào)】CN100499057C 【授權(quán)公告日】2009-06-10 【授權(quán)公告年份】2009.0 【IPC分類號(hào)】H01L21/66; G01N21/95; G01R31/00 【發(fā)明人】左仲; 王明珠; 呂秋玲; 趙慶國 【主權(quán)項(xiàng)內(nèi)容】1.一種晶片檢測(cè)方法，其特征在于，包括： a.利用自動(dòng)目檢(AVI)工具中的光學(xué)處理單元獲取晶片光學(xué)圖像； b.對(duì)晶片光學(xué)圖像進(jìn)行灰度計(jì)算及分區(qū)； c.確定各分區(qū)內(nèi)的標(biāo)準(zhǔn)芯片； d.將不同分區(qū)內(nèi)的其它芯片同標(biāo)準(zhǔn)芯片進(jìn)行灰度值對(duì)比，檢測(cè)出缺陷芯 片。 【當(dāng)前權(quán)利人】中芯國際集成電路制造(上海)有限公司; 中芯國際集成電路制造(北京)有限公司 【當(dāng)前專利權(quán)人地址】上海市浦東新區(qū)張江路18號(hào); 北京市大興區(qū)經(jīng)濟(jì)技術(shù)開發(fā)區(qū)文昌大道18號(hào) 【專利權(quán)人類型】有限責(zé)任公司(外國法人獨(dú)資) 【統(tǒng)一社會(huì)信用代碼】91310115710939629R 【引證次數(shù)】2.0 【被引證次數(shù)】46 【他引次數(shù)】2.0 【被自引次數(shù)】5.0 【被他引次數(shù)】41.0 【家族引證次數(shù)】6.0 【家族被引證次數(shù)】46
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