【專利類型】外觀設計【申請人】社團法人浦東新區(qū)工程師協(xié)會; 伍珺【申請人類型】個人,機關團體【申請人地址】201203上海市張江高科技園區(qū)郭守敬路189號【申請人地區(qū)】中國【申請人城市】上海市【申請人區(qū)縣】浦東新區(qū)【申請?zhí)枴緾N200630
【摘要】 一種脫磷裝置,包括上、下對應設置的兩個環(huán)形 槽,下環(huán)形槽內、外徑均大于上環(huán)形槽,環(huán)形槽外側面頂端低 于內側面頂端;上環(huán)形槽上方或兩側下方和下環(huán)形槽兩側下方 設有強電子槍環(huán)狀集束陣列,槍口對準硅水幕。電子槍可升降。 本實用新型除磷效果好。 【專利類型】實用新型 【申請人】高文秀 【申請人類型】個人 【申請人地址】200083上海市虹口區(qū)玉田路500號 【申請人地區(qū)】中國 【申請人城市】上海市 【申請人區(qū)縣】虹口區(qū) 【申請?zhí)枴緾N200620031880.X 【申請日】2006-05-08 【申請年份】2006 【公開公告號】CN2905759Y 【公開公告日】2007-05-30 【公開公告年份】2007 【授權公告號】CN2905759Y 【授權公告日】2007-05-30 【授權公告年份】2007.0 【發(fā)明人】高文秀 【主權項內容】1、一種脫磷裝置,其特征在于,包括上、下對應設置的兩個環(huán)形槽,下 環(huán)形槽內、外徑均大于上環(huán)形槽,環(huán)形槽外側面頂端低于內側面頂端;上環(huán) 形槽上方或兩側下方和下環(huán)形槽兩側下方設有強電子槍環(huán)狀集束陣列,槍口 對準硅水幕。 【當前權利人】樂山金迅硅品有限公司
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