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【摘要】 馬-克-數(shù)據(jù) 本發(fā)明涉及一種電子束曝光中套刻工藝的實(shí)現(xiàn) 方法，屬于微電子領(lǐng)域。其特征在于將套刻標(biāo)志放置于曝光圖 形的中央，而后利用電鏡放大倍數(shù)的縮放來(lái)實(shí)現(xiàn)套刻。傳統(tǒng)的 套刻技術(shù)是將對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記和圖形結(jié)構(gòu)的位置獨(dú)立開(kāi)來(lái)，但是這需 要較為昂貴的定位工件臺(tái)來(lái)支持。針對(duì)現(xiàn)在實(shí)驗(yàn)電子束曝光的 設(shè)備(主要是掃描電子顯微鏡外配圖形發(fā)生器)。本發(fā)明提出了 一種不需要定位工件臺(tái)來(lái)實(shí)現(xiàn)套刻的方法，其套準(zhǔn)精度小于μ m，可以滿足亞微米及納米器件制備的工藝要求。 【專利類型】發(fā)明申請(qǐng) 【申請(qǐng)人】中國(guó)科學(xué)院上海微系統(tǒng)與信息技術(shù)研究所 【申請(qǐng)人類型】科研單位 【申請(qǐng)人地址】200050上海市長(zhǎng)寧區(qū)長(zhǎng)寧路865號(hào) 【申請(qǐng)人地區(qū)】中國(guó) 【申請(qǐng)人城市】上海市 【申請(qǐng)人區(qū)縣】長(zhǎng)寧區(qū) 【申請(qǐng)?zhí)枴緾N200610030768.9 【申請(qǐng)日】2006-09-01 【申請(qǐng)年份】2006 【公開(kāi)公告號(hào)】CN1912747A 【公開(kāi)公告日】2007-02-14 【公開(kāi)公告年份】2007 【IPC分類號(hào)】G03F7/20; G03F9/00 【發(fā)明人】宋志棠; 呂士龍; 劉波; 封松林 【主權(quán)項(xiàng)內(nèi)容】1、一種電子束曝光中套刻工藝的實(shí)現(xiàn)方法，其特征在于實(shí)現(xiàn)方法的步 驟是： (a)器件版圖的設(shè)計(jì)，設(shè)計(jì)出需要曝光的圖形結(jié)構(gòu)，使不同曝光順序 的圖形結(jié)構(gòu)放置于不同的曝光層中；版圖設(shè)計(jì)的最大區(qū)域取決于掃描電鏡的 最小放大倍數(shù)下所能觀察到的區(qū)域； (b)對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的設(shè)計(jì)，對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記放置于版圖的中心區(qū)域，套刻精度小 于1μm時(shí)，標(biāo)記長(zhǎng)度為30-50μm； (c)對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記，先在電鏡低的放大倍數(shù)下找到標(biāo)記，在標(biāo)記的中心區(qū) 域?qū)㈦娮邮咕壅{(diào)整好，然后將標(biāo)記的中心與圖形發(fā)生器圖像掃描中心對(duì) 準(zhǔn)，逐漸調(diào)整放大倍數(shù)，逐漸調(diào)整中心對(duì)準(zhǔn)程度；兩個(gè)中心對(duì)準(zhǔn)程度愈高則 套刻的精度愈高； (d)調(diào)整放大倍數(shù)，在步驟(c)標(biāo)準(zhǔn)對(duì)準(zhǔn)后將電鏡的放大倍數(shù)調(diào)整到 曝光時(shí)的狀態(tài)； (e)確定曝光結(jié)構(gòu)，選擇需要曝光的圖形所在的圖層，設(shè)置好相應(yīng)得 曝光參數(shù)、進(jìn)行曝光。 數(shù)據(jù)由馬 克 團(tuán) 隊(duì)整理 【當(dāng)前權(quán)利人】中國(guó)科學(xué)院上海微系統(tǒng)與信息技術(shù)研究所 【當(dāng)前專利權(quán)人地址】上海市長(zhǎng)寧區(qū)長(zhǎng)寧路865號(hào) 【統(tǒng)一社會(huì)信用代碼】12100000425006790C 【被引證次數(shù)】6 【被自引次數(shù)】2.0 【被他引次數(shù)】4.0 【家族被引證次數(shù)】6

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