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應用自由空間耦合技術調(diào)制光的方法及調(diào)制器

時間:2026-04-06    作者:admin 點擊: ( 1 ) 次

【摘要】 一種應用自由空間耦合技術調(diào)制光的方法及調(diào) 制器,調(diào)制器的下層金屬膜、有機聚合物薄膜和上層金屬膜依 次鍍在襯底的上表面,上下層金屬膜和有機聚合物薄膜構成雙 面金屬包覆波導結構,上層金屬膜和有機聚合物薄膜構成了衰 減全反射結構。方法如下:首先形成上述調(diào)制器,采用半導體 激光產(chǎn)生激光信號直接入射到上層金屬膜的上表面。當入射角 達到模式匹配角時,產(chǎn)生導波共振,激發(fā)在有機聚合物薄膜內(nèi) 傳播的導波。繪制調(diào)制器反射光強隨入射角變化的曲線。選擇 產(chǎn)生導波共振的模式匹配角,作為調(diào)制器的工作點,在上下層 金屬膜上施加電信號,調(diào)制入射激光信號,探測反射激光信號 并顯示在示波器上。本發(fā)明電壓低、易于集成、價格低廉、插 入損耗低。 【專利類型】發(fā)明申請 【申請人】上海交通大學 【申請人類型】學校 【申請人地址】200240上海市閔行區(qū)東川路800號 【申請人地區(qū)】中國 【申請人城市】上海市 【申請人區(qū)縣】閔行區(qū) 【申請?zhí)枴緾N200610029140.7 【申請日】2006-07-20 【申請年份】2006 【公開公告號】CN1900768A 【公開公告日】2007-01-24 【公開公告年份】2007 【授權公告號】CN100410733C 【授權公告日】2008-08-13 【授權公告年份】2008.0 【IPC分類號】G02F1/061; G02F1/01 【發(fā)明人】朱琨; 鄧曉旭; 曹莊琪; 沈啟舜 【主權項內(nèi)容】1、一種應用自由空間耦合技術調(diào)制光的調(diào)制器,包括:上層金屬膜(1)、 有機聚合物薄膜(2)、下層金屬膜(3)和襯底(4),其特征在于:下層金屬膜 (3)、有機聚合物薄膜(2)和上層金屬膜(1)依次鍍在襯底(4)上表面,其 中上下金屬膜(1)、(3)和有機聚合物薄膜(2)構成有機聚合物雙面金屬包覆 波導結構,上層金屬膜(1)和有機聚合物薄膜(2)構成了衰減全反射結構,從 激光器(5)發(fā)射的激光入射到上層金屬膜(1)上表面所激發(fā)的導波就在有機聚 合物薄膜(2)中傳播。。關注公眾號馬克數(shù)據(jù)網(wǎng) 【當前權利人】上海交通大學 【當前專利權人地址】上海市閔行區(qū)東川路800號 【統(tǒng)一社會信用代碼】1210000042500615X0 【被引證次數(shù)】11 【被自引次數(shù)】1.0 【被他引次數(shù)】10.0 【家族引證次數(shù)】3.0 【家族被引證次數(shù)】12

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