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45°入射寬光譜消偏振濾光片的構(gòu)建方法

時間:2026-04-05    作者:admin 點擊: ( 1 ) 次

【摘要】 本發(fā)明公開了一種45°入射寬光譜消偏振濾光 片的構(gòu)建方法,包括:采用兩個中心波長不同的雙反射膜堆加 三匹配層的構(gòu)思建立基本膜系,然后對基本膜系膜層厚度運用 膜系設(shè)計與分析軟件Tfcalc3.5中的變尺度優(yōu)化方法進(jìn)行優(yōu)化, 即得最終鍍膜膜系的膜層厚度。本發(fā)明的濾光片構(gòu)建方法具有 的優(yōu)點是只需高低折射率兩種膜料;僅對部分膜層厚度進(jìn)行優(yōu) 化,且膜層層數(shù)較少,易于鍍制;入射角度對偏振變化不敏感; 該濾光片具有寬光譜、低偏振度及高消光比的特點;濾光片的 基底選材和膜料選材范圍寬。。詳見官網(wǎng):www.macrodatas.cn 【專利類型】發(fā)明申請 【申請人】中國科學(xué)院上海技術(shù)物理研究所 【申請人類型】科研單位 【申請人地址】200083上海市玉田路500號 【申請人地區(qū)】中國 【申請人城市】上海市 【申請人區(qū)縣】虹口區(qū) 【申請?zhí)枴緾N200610118740.0 【申請日】2006-11-24 【申請年份】2006 【公開公告號】CN1959447A 【公開公告日】2007-05-09 【公開公告年份】2007 【IPC分類號】G02B5/20; G02B27/00 【發(fā)明人】馬小鳳; 劉定權(quán); 陳剛; 李大琪; 朱圳; 張鳳山; 嚴(yán)義勛 【主權(quán)項內(nèi)容】1.一種45°入射寬光譜消偏振濾光片的構(gòu)建方法,其特征在于包括如下步 驟: §A.建立基本膜系: 基底正面膜系為 基底/(g1Hg2Lg1H)2(HL)8(g1Hg2Lg1H)2(H’L’)11(g1Hg2Lg1H)2/空氣; 基底背面膜系為: ?????????????基底/0.8H0.6L1.3H2L/空氣; 其中:入射介質(zhì)為空氣,基底為熔凝石英或者BK7玻璃; g1,g2是膜層厚度系數(shù),其取值范圍均在0.5~2.5之間,視參考波長而定; (HL)8和(H’L’)11為兩個中心波長不同的雙反射膜堆,(HL)8中心波長為λ1, (H’L’)11中心波長為λ2; 兩個(g1Hg2Lg1H)2為匹配層,兩個反射膜堆之間的(g1Hg2Lg1H)2為平滑層; H、L分別代表光學(xué)厚度為λ1/4高、低折射率膜層,H’、L’分別代表光學(xué) 厚度為λ2/4高、低折射率膜層。 §B.對上述的正面基本膜系膜層厚度進(jìn)行優(yōu)化: 運用膜系設(shè)計與分析軟件Tfcalc3.5中的變尺度優(yōu)化方法,將濾光片截止 帶的反射率R=100%及其透射帶的透射率T=100%作為優(yōu)化目標(biāo)函數(shù),對上述正面 膜系中各匹配層的膜層厚度以及反射膜堆中的低折射率膜層厚度進(jìn)行變尺度優(yōu) 化,即得最終鍍膜膜系的膜層厚度。 【當(dāng)前權(quán)利人】中國科學(xué)院上海技術(shù)物理研究所 【當(dāng)前專利權(quán)人地址】上海市玉田路500號 【統(tǒng)一社會信用代碼】12100000425005579K 【被引證次數(shù)】12 【被自引次數(shù)】3.0 【被他引次數(shù)】9.0 【家族被引證次數(shù)】12

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