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【摘要】本發(fā)明提供了一種消除光刻膠中氣泡的方法，具體工藝步驟為：對晶片進行第一次烘焙；沉積凸點下金屬層；形成光刻膠層；進行第二次烘焙。使用上述的方法能消除具有各種結(jié)構(gòu)的晶片表面的氣泡，消除率達到99.9％。本發(fā)明還提供一種消除了光刻膠中氣泡

【摘要】1.該產(chǎn)品為平面產(chǎn)品，后視圖無設(shè)計要點，省略后視圖。 2.請求保護的外觀設(shè)計包含色彩。來自：馬 克 團 隊【專利類型】外觀設(shè)計【申請人】社團法人浦東新區(qū)工程師協(xié)會; 梅曄禎【申請人類型】個人,機關(guān)團體【申請人地址】201203上海市

【專利類型】外觀設(shè)計【申請人】許寶艷【申請人類型】個人【申請人地址】200080上海市虹口區(qū)東寶興路318號402【申請人地區(qū)】中國【申請人城市】上海市【申請人區(qū)縣】虹口區(qū)【申請?zhí)枴緾N200630033831.5【申請日】2006-02-

【專利類型】外觀設(shè)計【申請人】上海華普汽車有限公司【申請人類型】企業(yè)【申請人地址】201501上海市金山區(qū)楓涇工業(yè)園區(qū)【申請人地區(qū)】中國【申請人城市】上海市【申請人區(qū)縣】金山區(qū)【申請?zhí)枴緾N200630039523.3【申請日】2006-0

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