【摘要】本發(fā)明涉及一種用于集成電路多層互連結(jié)構(gòu)金 屬化學(xué)機(jī)械拋光(CMP)的拋光液原位批處理方法及所使用的裝 置。創(chuàng)新點(diǎn)在于利用電化學(xué)工作原理，將拋光產(chǎn)生的金屬離子 還原轉(zhuǎn)移達(dá)到去除的目的，同時恢復(fù)拋光液中氧化劑的功能。 所述的裝置是在傳統(tǒng)
【摘要】 本實(shí)用新型涉及一種涂膜層壓體，其對建筑物壁 面基材設(shè)置凹凸形狀涂膜層的涂膜層壓體，該凹凸形狀涂膜層 通過平均膜厚為0.3mm以上的平坦涂膜層層壓在基材上；凹凸 形狀涂膜層是含有玻璃化轉(zhuǎn)變溫度－20～80℃樹脂成分(A)與 粒徑1～500μm粉粒體，單位體積的粉粒體比例達(dá)到40～90 ％的層；平坦涂膜層是含有玻璃化轉(zhuǎn)變溫度－50～50℃樹脂成 分(B)與粒徑1～500μm粉粒體，單位體積粉粒體比例達(dá)到 30～80％的層；平坦涂膜層中樹脂成分(B)的玻璃化轉(zhuǎn)變溫度比 凹凸形狀涂膜層中樹脂成分(A)的玻璃化轉(zhuǎn)變溫度低；平坦涂 膜層粉粒體比例比凹凸形狀涂膜層粉粒體比例低；平坦涂膜層 與凹凸形狀涂膜層的色差在20以下。 【專利類型】實(shí)用新型 【申請人】四國化研(上海)有限公司 【申請人類型】企業(yè) 【申請人地址】200051上海市長寧區(qū)仙霞路319號遠(yuǎn)東大廈A座2503－06室 【申請人地區(qū)】中國 【申請人城市】上海市 【申請人區(qū)縣】長寧區(qū) 【申請?zhí)枴緾N200620001147.3 【申請日】2006-01-17 【申請年份】2006 【公開公告號】CN2869191Y 【公開公告日】2007-02-14 【公開公告年份】2007 【授權(quán)公告號】CN2869191Y 【授權(quán)公告日】2007-02-14 【授權(quán)公告年份】2007.0 【IPC分類號】E04F13/00 【發(fā)明人】西田博幸 【主權(quán)項(xiàng)內(nèi)容】1、一種涂膜層壓體，其是對建筑物壁面基材，設(shè)置凹凸形狀涂膜層的 涂膜層壓體，其特征在于，該凹凸形狀涂膜層通過平均膜厚為0.3mm以上 的平坦涂膜層層壓在基材上；凹凸形狀涂膜層是含有玻璃化轉(zhuǎn)變溫度-20～ 80℃的樹脂成分(A)與粒徑1～500μm的粉粒體，單位體積的粉粒體比例 達(dá)到40～90％的層；平坦涂膜層是含有玻璃化轉(zhuǎn)變溫度-50～50℃的樹脂成 分(B)與粒徑1～500μm的粉粒體，單位體積的粉粒體比例達(dá)到30～80％ 的層；平坦涂膜層中的樹脂成分(B)的玻璃化轉(zhuǎn)變溫度比凹凸形狀涂膜層 中的樹脂成分(A)的玻璃化轉(zhuǎn)變溫度低；平坦涂膜層的粉粒體比例比凹凸 形狀涂膜層的粉粒體比例低；平坦涂膜層與凹凸形狀涂膜層的色差在20 以下。。來源：百度搜索馬克數(shù)據(jù)網(wǎng) 【當(dāng)前權(quán)利人】四國化研(上海)有限公司 【當(dāng)前專利權(quán)人地址】上海市長寧區(qū)仙霞路319號遠(yuǎn)東大廈A座2503－06室 【專利權(quán)人類型】港、澳、臺 【統(tǒng)一社會信用代碼】9131000060743477XJ
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