【專利類型】外觀設(shè)計【申請人】上海頂新箱包有限公司【申請人類型】企業(yè)【申請人地址】201500上海市金山區(qū)朱涇鎮(zhèn)亭楓公路3168號【申請人地區(qū)】中國【申請人城市】上海市【申請人區(qū)縣】金山區(qū)【申請?zhí)枴緾N200630038729.4【申請日】
【摘要】 本發(fā)明涉及一種用于集成電路多層互連結(jié)構(gòu)金 屬化學(xué)機械拋光(CMP)的拋光液原位批處理方法及所使用的裝 置。創(chuàng)新點在于利用電化學(xué)工作原理，將拋光產(chǎn)生的金屬離子 還原轉(zhuǎn)移達(dá)到去除的目的，同時恢復(fù)拋光液中氧化劑的功能。 所述的裝置是在傳統(tǒng)的單頭或多頭拋光系統(tǒng)中，增加拋光液原 位批處理系統(tǒng)和拋光盤的在線修復(fù)，使拋光速率和拋光過程均 勻性信息在線檢測，將現(xiàn)有拋光工序和拋光液原處理工序集為 一體。與現(xiàn)有拋光液一次性消耗工藝相比，不僅可以減少拋光 液的消耗，而且可以減少拋光液后處理所帶來的不便，是解決 集成電路化學(xué)機械拋光工藝高成本的一種有效方法和設(shè)備。 【專利類型】發(fā)明申請 【申請人】中國科學(xué)院上海微系統(tǒng)與信息技術(shù)研究所 【申請人類型】科研單位 【申請人地址】200050上海市長寧區(qū)長寧路865號 【申請人地區(qū)】中國 【申請人城市】上海市 【申請人區(qū)縣】長寧區(qū) 【申請?zhí)枴緾N200610030551.8 【申請日】2006-08-30 【申請年份】2006 【公開公告號】CN1915595A 【公開公告日】2007-02-21 【公開公告年份】2007 【IPC分類號】B24B57/00; C25C1/00; B24B53/00 【發(fā)明人】張楷亮; 宋志棠; 封松林; 陳邦明 【主權(quán)項內(nèi)容】1、一種用于集成電路多層互連結(jié)構(gòu)金屬化學(xué)機械拋光的拋光液原位批處理的方法，其特征在于所述的批處理方法的步驟是： (1)將化學(xué)機械拋光過程產(chǎn)生的含有被拋光材料金屬離子的拋光液用電化學(xué)處理工藝將金屬離子轉(zhuǎn)化為金屬并沉積在陰極上，以去除拋光液中的金屬離子； (2)通過下述兩種方法中任意一種在步驟(1)的可溶性金屬離子去除同時，實現(xiàn)拋光液氧化能力的恢復(fù)，所述的兩種方法分別是電化學(xué)處理方法，使電路的陰極發(fā)生氧化反應(yīng)，拋光液的氧化能力得到還原；或是向拋光液中補充氧化劑，所述的氧化劑為無金屬離子的過氧化氫、過氧化氫脲或過硫酸銨。 更多數(shù)據(jù)：www.macrodatas.cn 【當(dāng)前權(quán)利人】中國科學(xué)院上海微系統(tǒng)與信息技術(shù)研究所 【當(dāng)前專利權(quán)人地址】上海市長寧區(qū)長寧路865號 【統(tǒng)一社會信用代碼】12100000425006790C 【引證次數(shù)】4.0 【被引證次數(shù)】8 【他引次數(shù)】4.0 【被自引次數(shù)】1.0 【被他引次數(shù)】7.0 【家族引證次數(shù)】4.0 【家族被引證次數(shù)】8
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