【摘要】本發(fā)明公開了一種生長在 Al2O3襯底上的復(fù)合緩沖層及制備方法,該復(fù)合緩沖層包括:依 次排列生成的AlN層、GaN層、InN : Mn層及InN過渡層。制 備方法采用MBE生長方式,首先采用高溫氮化技術(shù)在 Al2O3表面形成AlN層
【摘要】 本外觀設(shè)計產(chǎn)品為大型落地產(chǎn)品,右視圖與左視圖對稱,后視圖 與主視圖對稱,仰視圖與俯視圖對稱,省略后視圖、右視圖和仰視圖。。來自馬-克-數(shù)-據(jù)-官網(wǎng) 【專利類型】外觀設(shè)計 【申請人】上海李如會展原創(chuàng)設(shè)計工作室有限公司 【申請人類型】企業(yè) 【申請人地址】200052上海市華山路1399號二樓 【申請人地區(qū)】中國 【申請人城市】上海市 【申請人區(qū)縣】金山區(qū) 【申請?zhí)枴緾N200630046376.2 【申請日】2006-12-06 【申請年份】2006 【公開公告號】CN300696442D 【公開公告日】2007-10-03 【公開公告年份】2007 【授權(quán)公告號】CN300696442D 【授權(quán)公告日】2007-10-03 【授權(quán)公告年份】2007.0 【發(fā)明人】李如 【主權(quán)項內(nèi)容】無 【當(dāng)前權(quán)利人】上海李如會展原創(chuàng)設(shè)計工作室有限公司 【當(dāng)前專利權(quán)人地址】上海市華山路1399號二樓 【專利權(quán)人類型】有限責(zé)任公司(自然人投資或控股) 【統(tǒng)一社會信用代碼】913101187696922610
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