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【摘要】本發(fā)明公開了一種單晶InP方形納米孔陣列的制備方法，屬于納米技術(shù)領(lǐng)域。本發(fā)明利用兩步化學(xué)刻蝕方法，包括電化學(xué)刻蝕過程和無電濕法刻蝕過程，首先為電化學(xué)刻蝕過程，包括InP單晶片樣品的準(zhǔn)備、電拋光和多孔陣列刻蝕，其后為無電濕法刻蝕過程，

【摘要】平面產(chǎn)品，單元圖案四方連續(xù)，無限定邊界?！緦＠愋汀客庥^設(shè)計(jì)【申請(qǐng)人】衣戀時(shí)裝(上海)有限公司【申請(qǐng)人類型】企業(yè)【申請(qǐng)人地址】200241上海市閔行區(qū)龍吳路5888號(hào)【申請(qǐng)人地區(qū)】中國【申請(qǐng)人城市】上海市【申請(qǐng)人區(qū)縣】閔行區(qū)【申請(qǐng)?zhí)?/p>

【專利類型】外觀設(shè)計(jì)【申請(qǐng)人】上海旅友箱包有限公司【申請(qǐng)人類型】企業(yè)【申請(qǐng)人地址】201108上海市閔行區(qū)聯(lián)曹路558號(hào)【申請(qǐng)人地區(qū)】中國【申請(qǐng)人城市】上海市【申請(qǐng)人區(qū)縣】閔行區(qū)【申請(qǐng)?zhí)枴緾N200630040789.X【申請(qǐng)日】2006-

【摘要】1.請(qǐng)求保護(hù)的外觀設(shè)計(jì)包含色彩。 2.平面產(chǎn)品，省略其他視圖。更多數(shù)據(jù)：搜索馬克數(shù)據(jù)網(wǎng)來源：www.macrodatas.cn【專利類型】外觀設(shè)計(jì)【申請(qǐng)人】上海創(chuàng)博生態(tài)工程有限公司【申請(qǐng)人類型】企業(yè)【申請(qǐng)人地址】201612上海市閔

【摘要】本實(shí)用新型涉及一次性塑料水杯托架，特別是一種杯托。它包括筒體和把手，其特征在于：該筒體由一上部筒件、一個(gè)以上的中部筒件和底部筒件構(gòu)成；其中，上部筒件是兩端敞開的錐筒形狀；中部筒件也是兩端敞開的錐筒形狀，它套設(shè)于上部筒件或其它中部筒件

【摘要】本實(shí)用新型涉及一種手鋸，包括手柄和帶切削刃的鋸條，手柄一側(cè)與帶切削刃的鋸條固定，其特征在于，鋸條上設(shè)有限位板，通過設(shè)于傾斜的導(dǎo)向槽中的夾持件和導(dǎo)向銷固定，在鋸條上從其兩端起對(duì)著切削刃的一側(cè)設(shè)有兩條導(dǎo)向槽，兩條導(dǎo)向槽相互平行，導(dǎo)向槽向