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【摘要】本發(fā)明公開了一種脫除 SiO2表面的酸性物質的裝置和 方法，在脫酸爐(2)的內壁，沿法線方向設有長條狀的抄板(9)， 所說的抄板(9)的一端與脫酸爐(2)的內壁固定連接，在脫酸爐 內，靠近物料入口端處設有物料阻擋板，物料阻擋板通過連

【摘要】本發(fā)明采用紫外線臭氧并用的雙重殺菌結構，主要由殺菌凈化模塊3與臭氧導出排管2兩部分組成，殺菌凈化模塊3由豎立狀排列的紫外線照射管4、金屬支架6、喇叭形托架10、紫外線照射管頂部結構7和自動清洗結構11組成；由于頂部結構7位于金屬支架

【摘要】一種低溫下制備銳鈦礦晶相二氧化鈦薄膜的方法，屬于寬禁帶半導體光催化科技領域。本發(fā)明通過反應磁控濺射在基材上沉積二氧化鈦膜，在沉積過程中基材所在基底不加熱且通過水冷系統(tǒng)冷卻，氬氣流量保持在30sccm，調節(jié)氬氣與氧氣的流量比在10∶1

【摘要】本外觀設計產(chǎn)品的設計要點集中在主視圖、后視圖中，左、右、俯、仰視圖無 設計要點，故省略其他視圖。百度搜索馬 克 數(shù) 據(jù) 網(wǎng)【專利類型】外觀設計【申請人】衣戀時裝(上海)有限公司【申請人類型】企業(yè)【申請人地址】200241上海市閔行區(qū)

【摘要】后視圖與主視圖相同，左視圖與右視圖相同， 仰視圖與俯視圖相同，省略左視圖、仰視圖和后視圖?！緦＠愋汀客庥^設計【申請人】上海全禾鑫實業(yè)有限公司【申請人類型】企業(yè)【申請人地址】201105上海市閔行區(qū)華翔路268號【申請人地區(qū)】中國【

【摘要】本發(fā)明提供了一種抗振型指針式SF6氣體密度繼電器，主要包括殼體和設置在殼體內的基座、機芯、C形管、溫度補償片、橫梁、連接桿、三個調節(jié)桿、三個微動開關、印制電路板和固定板。其特點是：三個微動開關分別設置在三個調節(jié)桿的上方，各微動開關上