【摘要】本發(fā)明提供一種對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記及其制造方法，主要用 于光刻裝置的掩模和晶片對(duì)準(zhǔn)；該對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記包括第一部分結(jié)構(gòu) 和第二部分結(jié)構(gòu)，其中，第二部分結(jié)構(gòu)包括第一光柵和第二光 柵。該第一光柵的周期和第二光柵的周期互不相同且分別分布 在第一部分結(jié)構(gòu)兩側(cè)。
【摘要】 本實(shí)用新型提供了一種防偽印章，包括章托和章面，所述章面的局部上設(shè)有字樣和/或圖案，所述章面上還設(shè)有溝痕防偽區(qū)域，所述溝痕防偽區(qū)域上設(shè)有數(shù)碼暗記。本實(shí)用新型的防偽印章使得人們?cè)谡Ｇ闆r下不借助特殊設(shè)備和參照印章圖文就可以識(shí)別真?zhèn)巍? 【專(zhuān)利類(lèi)型】實(shí)用新型 【申請(qǐng)人】上海印安印章制作有限公司 【申請(qǐng)人類(lèi)型】企業(yè) 【申請(qǐng)人地址】200434上海市虹口區(qū)豐鎮(zhèn)路858號(hào)103室 【申請(qǐng)人地區(qū)】中國(guó) 【申請(qǐng)人城市】上海市 【申請(qǐng)人區(qū)縣】虹口區(qū) 【申請(qǐng)?zhí)枴緾N200620045340.7 【申請(qǐng)日】2006-08-31 【申請(qǐng)年份】2006 【公開(kāi)公告號(hào)】CN200942636Y 【公開(kāi)公告日】2007-09-05 【公開(kāi)公告年份】2007 【授權(quán)公告號(hào)】CN200942636Y 【授權(quán)公告日】2007-09-05 【授權(quán)公告年份】2007.0 【發(fā)明人】陳寶林 【主權(quán)項(xiàng)內(nèi)容】1.一種防偽印章，包括章托(1)和章面(2)，所述章面(2)的局部上設(shè)有字樣和 /或圖案(3)，其特征在于， 所述章面(2)上還設(shè)有溝痕防偽區(qū)域(4)， 所述溝痕防偽區(qū)域(4)上設(shè)有數(shù)碼暗記(5)。。微信公眾號(hào)馬克數(shù)據(jù)網(wǎng) 【當(dāng)前權(quán)利人】上海印安印章制作有限公司 【當(dāng)前專(zhuān)利權(quán)人地址】上海市虹口區(qū)豐鎮(zhèn)路858號(hào)103室 【專(zhuān)利權(quán)人類(lèi)型】有限責(zé)任公司
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