【摘要】本發(fā)明提供一種提高III-V族應(yīng)變多量子阱發(fā) 光強度的方法,其特征是通過離子刻蝕方法增強III-V族發(fā)光 材料的發(fā)光亮度。離子刻蝕覆蓋層采用感應(yīng)耦合等離子體(ICP) 或反應(yīng)離子(RIE)等刻蝕技術(shù)。刻蝕所采用的氣體為Ar離子或 A
【專利類型】外觀設(shè)計 【申請人】上海臺項工藝制品有限公司 【申請人類型】企業(yè) 【申請人地址】201101上海市閔行區(qū)星風(fēng)路518號 【申請人地區(qū)】中國 【申請人城市】上海市 【申請人區(qū)縣】閔行區(qū) 【申請?zhí)枴緾N200630035942.X 【申請日】2006-04-28 【申請年份】2006 【公開公告號】CN3628898D 【公開公告日】2007-04-04 【公開公告年份】2007 【授權(quán)公告號】CN3628898D 【授權(quán)公告日】2007-04-04 【授權(quán)公告年份】2007.0 【發(fā)明人】林汝聰 【主權(quán)項內(nèi)容】無 【當(dāng)前權(quán)利人】上海臺項工藝制品有限公司 【當(dāng)前專利權(quán)人地址】上海市閔行區(qū)星風(fēng)路518號 【專利權(quán)人類型】有限責(zé)任公司(自然人投資或控股)
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